支持内容

支持项目引入

对新引进的制造、封装测试、设备材料等半导体及集成电路制造业产业项目总投资超过1亿元的，给予实际投入（仅指设备、技术授权及软件投入）10%、最高3亿元的补贴。对南沙区集成电路入库企业新建或扩建项目享受新引进项目同等待遇。

对新设立的集成电路设计（含EDA工具和IP研发）企业，自落户之日起两年内，年营业收入首次达到1000万元（含）且技术团队到位5人（含）以上的，给予其主营业务收入的10%、最高300万元的补贴；年营业收入首次达到3000万元（含）且技术团队到位10人（含）以上的，给予其主营业务收入的10%、最高1000万元的补贴。

支持企业开展人才工作

支持集成电路企业库入库企业开展人才引进、培训等工作，对上一年度营业收入、研发投入、在南沙区缴纳社保的研发和技术员工数增幅均达到10%及以上的，给予每年100万元人才工作补贴；对于进入国家产业布局或承担国家重大专项的企业筹建阶段上一年度在南沙区缴纳社保的研发和技术员工数增加超过10人的，给予每年50万元人才工作补贴。对集成电路企业库入库企业新引进人才，可优先推荐享受南沙区人才政策，提供子女优先入学、本人及家属入户、优先就医、免费体检、消费优惠等优质服务。

支持建设公共服务平台

对区内提供EDA工具和IP、设计解决方案、测试验证等服务的集成电路公共服务平台，按照其实际建设投资额的30%给予最高5000万元的一次性补贴。

支持企业流片

对于使用多项目晶圆（MPW）流片进行研发的企业，按模拟类产品实际发生费用的100%、数字类产品实际发生费用的60%给予每家企业年度总额最高300万元的补贴。对于首次完成全掩膜（Full Mask：IP授权费、掩膜版费、测试化验费、加工费等）工程产品流片的企业，给予流片费用50%的补贴，其中：对工艺制程在45nm以上的、年度补贴总额最高600万元，对工艺制程在45nm以下的、年度补贴总额最高2000万元。

支持企业使用EDA工具和IP

对于上一年度购买或租用EDA设计工具软件或IP（含Foundry IP 模块）费用超过100万元并实际使用的，按照购买或租用费用的30%给予补贴，年度补贴总额最高100万元。